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01
2026
-
06
基于白光干涉仪的晶圆表面粗糙度及加工工艺检测分析
半导体超光滑晶圆构件是高端芯片、精密光学、激光系统的核心基础元件,其CMP抛光、研磨等工序易产生纳米级划痕、局部凹陷、颗粒凸起、面形畸变等微观缺陷。传统二维检测设...
01
2026
-
06
白光干涉仪高精度检测技术 优化光伏激光划线量产良率
一、光伏激光划线工艺质控痛点激光划线是钙钛矿、晶硅薄膜等光伏电池单片互联、P1/P2/P3结构化制备的核心工序,直接决定组件串联质量与光电转换性能[1]。受多层薄...
30
2026
-
05
微透镜面形精度工艺异常依托白光干涉仪快速溯源整改、
一、行业工艺痛点微透镜是光学成像、光伏聚光、传感模组的核心微型光学元件,其面形精度(Surface Figure)直接决定光学系统透光率、聚焦精度与成像品质。量产...
30
2026
-
05
白光干涉仪(White Light Interferomet...
一、行业检测痛点分析超光滑样品及超薄薄膜是半导体、光学器件、高端显示面板的核心基础材料,制备过程中易产生纳米级杂质凸起、膜厚不均、表面微划痕、局部凹陷、膜层剥离等...
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